离子束分析展望

质谱分析法分析原理:将待测物质电离，根据离子的质荷比进行分离，测量各种离子谱峰强度，从而达到分析目的的方法。几种常见离子源的原理和特点①电子轰击源(EI)的优点EI:重现性好，常用作标准谱图；灵敏度高，碎片多，质谱复杂，可以获得分子结构的信息，EI的缺点是:EI电离模式能量高，不易获得分子离子峰，不利于测定分子量；分析②化学电离法(CI):化学电离法是通过离子分子反应而不是强电子束电离来进行的，CI的优点:软电离法，MH 强，容易测定分子量和定量分析；c键不容易破解，容易获得官能团的信息。

【论文关键词】:纳米科学纳米技术纳米管【摘要】:探讨新时代纳米技术发展面临的困难和挑战。将讨论一系列新方法。我们也将讨论如果这些困难能够被克服，我们将会得到什么。纳米科学和技术涉及尺寸在1100纳米范围内的结构的制备和表征。这个领域的研究已经引起了全世界的关注。无论是从基础研究的概念(探索基于非经典效应的新物理现象)还是从应用的角度(受结构空间尺寸减小带来的优势和半导体器件特征尺寸不断减小的需要的驱动)，纳米结构都是极其有趣的。

溅射沉积技术定义了用具有一定能量的粒子(离子或中性原子和分子)轰击固体表面，使固体表面附近的原子或分子获得足够的能量，最终逃离固体表面的过程。溅射只能在一定的真空状态下进行。原理溅射中使用的轰击粒子通常是带正电荷的惰性气体离子，氩离子是最常用的。氩电离后，氩离子在电场加速下获得动能轰击靶。当氩离子能量低于5 eV时，它只作用于靶的最外层，主要是解吸原来吸附在靶表面的杂质。

当轰击粒子的能量超过靶材料升华热的4倍时，原子被推出晶格位置，以气相形式逃逸，产生溅射。对于大多数金属，溅射阈值能量约为1025电子伏。溅射产额，即单位入射离子轰击靶溅射的平均原子数，与入射离子的能量有关。在阈值能量附近溅射时，产额仅为105，104原子/离子，溅射产额随入射离子能量的增加呈指数增加。当离子能量为103，104 eV时，溅射产额达到稳定的最大值。当能量超过104 eV时，由于明显的离子注入，溅射产额下降。